img
img

新闻中心

瞬时功率测量

瞬时功率测量

使用多端口光功率计进行瞬时功率测量:通过测量光功率电平变化以确定光纤切换时间,从而观察光纤移动或网络重新配置所带来的瞬时波动,这已经超出了大多数光功率计的设计功能。这些传统光功率计通常仅用于对光功率电平 (常数或与其他仪器同步变化) 进行校准测量..
2022-01-18
光学测量仪器分类

光学测量仪器分类

光学测量的被测件进行分类,主要分为3类:有源器件,无源器件,高速通信。有源器件主要有:调制器,发送器,接收机,放大器,MUX/DEMUX,光电和电光转换器,以及激光源。无源器件主要...
2022-01-18
在半导体领域的重要性

在半导体领域的重要性

在半导体领域,“大数据分析”作为新的增长市场而备受期待。这是因为进行大数据分析时,除了微处理器之外,还需要高速且容量大的新型存储器。在《日经电子》主办的研讨会上,大学教授竹内健谈到了这一点
2022-01-18
材料问题

材料问题

电子组件进入纳米等级后,在材料方面也开始遭遇到一些瓶颈,因为原来使用的材料性能已不能满足要求。简单的一个例子,是所谓的闸极介电层材料;这层材料的基本要求是要能绝缘,不让电流通过。使用的是由硅基材氧化而成的二氧化硅,在一般状况下这是一个非常好的绝缘材料。
2022-01-18
蚀刻

蚀刻

另外一项重要的单元制程是蚀刻,这有点像是柏油路面的刨土机或钻孔机,把不要的薄层部分或挖一个深洞。只是在半导体制程中,通常是用化学反应加上的电浆,而不是用机械的方式。在未来的纳米蚀刻技术中,有一项深度对宽度的比值需求是相当于要挖一口 100 公尺的深井,挖完之后再用三种不同的材料填满深井,可是每一层材料的厚度只有 10 层原子或分子左右。这也是技术上的一大挑战。
2022-01-18
曝光显影

曝光显影

在所有的制程中,关键的莫过于微影技术。这个技术像照相的曝光显影,要把 IC 工程师设计好的蓝图,忠实地制作在芯片上,需要利用曝光显影的技术。在现今的纳米制程上,不只要求曝光显影出来的图形是几十纳米的大小,还要上下层结构在 30 公分直径的晶圆上,对准的准确度在几纳米之内。这样的程度相当于在中国大陆的面积上,每次都能找到一颗玻璃弹珠。因此这个设备与制程在半导体工厂里是复杂、也是昂贵的。 半导体技术进入纳米时代后,除了水平方向尺寸的微缩造成对微影技术的严苛要求外,在垂直方向的要求也同样地严格。一些薄膜的厚度都是 1 ~ 2 纳米,而且在整片上的误差小于 5%。这相当于在100个足球场的面积上要很均匀地铺上一层约1公分厚的泥土,而且误差要控制在 0.05 公分的范围内。
2022-01-18
上一页
1
2

地址:吉林省长春市北湖科技开发区科技园12号楼
电话:18686694097
邮箱:info@ccyj-opticstech.com
网址:http://www.ccyj-opticstech.com/   电话:XXXXXXXXXXX 

邮箱:design@cedemo.cn

版权所有:长春盈捷光电科技有限公司  吉ICP备*****号  技术支持:中企动力长春

快捷导航

联系我们

 

地址:吉林省长春市北湖科技开发区科技园12号楼
电话:
18686694097
邮箱:info@ccyj-opticstech.com
网址:http://www.ccyj-opticstech.com/

 

微信公众号

扫一扫,关注我们

版权所有:长春盈捷光电科技有限公司  吉ICP备*****号  技术支持:中企动力长春